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Detalles del producto
Su fórmula, libre de agentes tensoactivos agresivos, purifica profundamente la piel sin irritarla. Contiene peróxido de urea, un antimicrobiano de amplio espectro que actúa contra las bacterias GRAM + y GRAM -.
Cuando entra en contacto con la piel, el limpiador facial Mask Clean Acné libera peróxido de hidrógeno y urea; el primero combate eficazmente la colonización bacteriana; el segundo, gracias a su indiscutible propiedad queratoplástica, proporciona una agradable sensación de suavidad y renovación en la piel tras cada lavado.
Composición de Mask Clean Acné, 150 ml
Aqua. Glycerin. Caprylyl/Capryl glucoside. Hydroxyethylcellulose. Sodium lauryl sulfoacetate. Disodium laureth sulfosuccinate. Polysorbate 20. Urea peroxide. Sodium carboxymethyl betaglucan. Allantoin. Etidronic acid. Parfum. Benzyl salicylate. Hexyl cinnamal. Butylphenyl methylpropional.Modo de empleo